电子制造超纯水系统方案

典型应用方案，帮助您理解处理方向与选型条件。

用水场景

电子制造工序对离子、电导率和末端水质有更严格的要求。

控制电导率与离子，兼顾连续运行和在线监测。

原水与现场

结合进水水质、终端工艺和目标指标判断分级处理。

核心难点

不能用增加RO设备数量代替对目标水质、离子和终端工艺的判断。

一级RO可能无法稳定满足要求，是否采用二级RO、EDI或进一步精处理，应由正式水质和目标决定。

为什么这样设计

超纯水系统的核心是目标水质稳定性，而不是简单增加处理级数。

典型工艺

以下为处理环节参考，是否采用二级RO、EDI及末端处理，应结合原水和生产目标确定。

按原水、目标和运行需求匹配处理单元，同时核对接口、运输和安装条件。

查看系统应用示意

了解处理单元与系统布局的应用方向。

统筹制水、循环和监测，围绕终端工艺管理水质变化。

说明原水、用途与水量，我们会结合您正在阅读的方案进行判断。